整体太low, 反智
洋人那边讲究把一批最精英的人放一起起反应，
比如那个伯克利，学校里就发明了很多东西
unix, eda， riscv 等等


【 在 qgg 的大作中提到: 】
: 这个当然不是没有解决过，在新中国这样一个积贫积弱的大国实现工业化，就是一个没有整体方案的系统工程，这样的超大型问题都已经解决了，相比之下半导体就是个小问题，也基本是最后几个要超越西方的领域了。


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修改:hljhlj FROM 113.227.14.*
FROM 113.227.14.*

技术构想不是西大提出来的？光看见有型的零部件，看不见无形的技术构想？

真服了你了！


【 在 TNND 的大作中提到: 】
: 西大有个p的光刻机。
: 西大只提供部分光刻机部件而已
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FROM 125.33.83.*

euv 这块儿是个华人提的方案
chou sunling, 其他人跟着搞的，
国内这种人爬不上去的


【 在 dragonfly112 的大作中提到: 】
: 你家没有整体方案，但邻居家有，不等于这个工程就是没有整体方案。还是需要先有整体方案，才能发展下去。
: 但集成电路不同，谁家都没有这个整体方案。东大没有，北大没有，西大也没有，日本和欧洲更没有。
: 西大发现了一种从核心器件开始，方向与有整体方案系统工程完全逆向的新型系统工程方法，渐次生成了其制造体系的完整方案。但这种整体方案随着集成度的提高，又不断过时。换而言之，同传统的系统工程方案是静止的相比，集成电路通过渐次生成的整体方案是持续动态的。
: ...................
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FROM 113.227.14.*

AI分析结果：

根据现有的权威资料，光刻机的方案并非由名为 "chou sunling" 的人提出。现代光刻技术的诞生和发展是多人贡献的结果。

光刻技术的起源与关键人物
现代光刻技术的基础概念和早期实践，主要与以下人物和事件相关：

早期探索与命名：光刻技术的基本原理，即利用光学和化学方法在材料上制作精细图形，其早期探索可以追溯到更早。例如，1822年，法国人尼塞福尔·尼埃普斯（Nicephore Niepce）发明了一种利用光线在油纸上刻印痕迹的技术，这被认为是光刻原理的早期雏形。但在当时，这项技术并未在各行业领域中被广泛应用，直到第二次世界大战时期，该技术才被应用于印刷电路板。

现代光刻技术的奠基：现代光刻技术作为半导体制造的核心工艺，其发展始于20世纪50年代。根据多个权威来源记载，关键人物包括：

杰伊·拉斯罗普（Jay Lathrop）：美国物理学家。
詹姆斯·奈尔（James Nall）：化学家，拉斯罗普的助手。

他们在1958年从显微镜的原理中得到启发，通过颠倒显微镜来缩小图像，从而开发出了将电路图案"打印"到硅片上的技术，这标志着光刻技术正式应用于半导体制造业

光刻机的商业化推进：在光刻机从实验室走向商业化生产的过程中，一些公司和机构起到了关键的推动作用。例如20世纪60年代，美国GCA公司制造出了第一台接触式光刻机。

日本的尼康（Nikon） 和佳能（Canon） 也较早地进入了光刻机的研发领域。

荷兰飞利浦公司旗下的实验室（Natlab）在1967年研制出了光刻机原型，这家实验室正是后来光刻机巨头阿斯麦（ASML） 的前身

【 在 hljhlj 的大作中提到: 】
: euv 这块儿是个华人提的方案
: chou sunling, 其他人跟着搞的，
: 国内这种人爬不上去的
: ...................
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FROM 125.33.83.*

不同工业门类的数据量差别很大，半导体产业的数据量要比其它所有工业门类的总和，还要更多。有的问题看起来很宏大，但其实并不复杂，比如城市规划和南水北调。半导体正好相反，做的东西很小，但数据量极大极复杂。

【 在 qgg 的大作中提到: 】
: 这个当然不是没有解决过，在新中国这样一个积贫积弱的大国实现工业化，就是一个没有整体方案的系统工程，这样的超大型问题都已经解决了，相比之下半导体就是个小问题，也基本是最后几个要超越西方的领域了。
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修改:lxku FROM 114.241.9.*
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