新凯来公司没有光刻机业务。


【 在 pizzarice 的大作中提到: 】
: 国家投那么多钱让这帮华为出来的人攻光刻机，这货就搞个教学仪器加盗版cadence改的EDA，竟然还有脸发布会。
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你的意思就是，新凯莱就是中国的阿斯麦呗。

阿斯麦专注搞光刻机，新凯莱多面出击，精力够吗？

何以见得目前国内的攻坚合力超过了西大呢？

西大用了20多年搞成的事，东大几年就能突破？

凭啥呢


【 在 iilxyz 的大作中提到: 】
: 你这种就是泄殖孔合一的，哪里说新凯来全部搞完，他只是系统集成商，其他是全国其他兄弟单位共同努力的结果。
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弯道超不了车。蛮干会发生事故。弯道只能起飞超越。但这需要有前提条件——先修跑道。


【 在 jhtcm 的大作中提到: 】
: 弯道超车啊
: 这都不懂
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FROM 125.33.83.*

你家没有整体方案，但邻居家有，不等于这个工程就是没有整体方案。还是需要先有整体方案，才能发展下去。

但集成电路不同，谁家都没有这个整体方案。东大没有，北大没有，西大也没有，日本和欧洲更没有。

西大发现了一种从核心器件开始，方向与有整体方案系统工程完全逆向的新型系统工程方法，渐次生成了其制造体系的完整方案。但这种整体方案随着集成度的提高，又不断过时。换而言之，同传统的系统工程方案是静止的相比，集成电路通过渐次生成的整体方案是持续动态的。

即使这样，西大也不给你他搞出来的这个整体方案。他可以卖给你工艺设备、制造方法，为的是让你产生依赖。

现在，搞独立自主，本质上是去依附，自己认识出这个新型系统工程来。否则，一开始就把全局方案定好，中间一但出现个意外（不确定性），就会导致无法调整方案，偏差持续放大，最后整个工程崩溃，实现不了预期目的。


【 在 qgg 的大作中提到: 】
: 这个当然不是没有解决过，在新中国这样一个积贫积弱的大国实现工业化，就是一个没有整体方案的系统工程，这样的超大型问题都已经解决了，相比之下半导体就是个小问题，也基本是最后几个要超越西方的领域了。
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AI分析结果：

根据现有的权威资料，光刻机的方案并非由名为 "chou sunling" 的人提出。现代光刻技术的诞生和发展是多人贡献的结果。

光刻技术的起源与关键人物
现代光刻技术的基础概念和早期实践，主要与以下人物和事件相关：

早期探索与命名：光刻技术的基本原理，即利用光学和化学方法在材料上制作精细图形，其早期探索可以追溯到更早。例如，1822年，法国人尼塞福尔·尼埃普斯（Nicephore Niepce）发明了一种利用光线在油纸上刻印痕迹的技术，这被认为是光刻原理的早期雏形。但在当时，这项技术并未在各行业领域中被广泛应用，直到第二次世界大战时期，该技术才被应用于印刷电路板。

现代光刻技术的奠基：现代光刻技术作为半导体制造的核心工艺，其发展始于20世纪50年代。根据多个权威来源记载，关键人物包括：

杰伊·拉斯罗普（Jay Lathrop）：美国物理学家。
詹姆斯·奈尔（James Nall）：化学家，拉斯罗普的助手。

他们在1958年从显微镜的原理中得到启发，通过颠倒显微镜来缩小图像，从而开发出了将电路图案"打印"到硅片上的技术，这标志着光刻技术正式应用于半导体制造业

光刻机的商业化推进：在光刻机从实验室走向商业化生产的过程中，一些公司和机构起到了关键的推动作用。例如20世纪60年代，美国GCA公司制造出了第一台接触式光刻机。

日本的尼康（Nikon） 和佳能（Canon） 也较早地进入了光刻机的研发领域。

荷兰飞利浦公司旗下的实验室（Natlab）在1967年研制出了光刻机原型，这家实验室正是后来光刻机巨头阿斯麦（ASML） 的前身

【 在 hljhlj 的大作中提到: 】
: euv 这块儿是个华人提的方案
: chou sunling, 其他人跟着搞的，
: 国内这种人爬不上去的
: ...................
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