1. 从EUV到DUV，全制程制裁
管制范围扩大到所有DUV沉浸式光刻机（28nm/14nm核心设备），连带低温蚀刻、薄膜沉积、清洗、量测等成熟制程关键设备，实现从28nm到先进制程的全覆盖。

2. 禁止对已售中国设备提供：安装、维修、保养、软件升级、备件、技术支持。

3. 要求荷兰、日本、韩国150天内完全对齐美国管制，否则直接动用“外国直接产品规则”，限制使用美国技术的盟国企业对华出口。
--发自 ismth(丝滑版)
--
FROM 14.18.99.*