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主题:Re: 美国提出新版半导体管制法案:MATCH (转载)
newzzdx
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2026-04-07 15:09:04
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新凯来计划在 2026 年推出 5nm 级量测设备(莫干山系列) 及 DUV 光刻机原型,进一步填补先进制程检测空白
【 在 blacksand 的大作中提到: 】
: 这些和雷总刚到手的保时捷外观专利没多大区别。公司专利专员小mm催更催的。做过部门经理的都知道,有摊派的,其实交出去的都是shit.
:
--
FROM 114.254.212.*
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