说中国人能力不行，都是外企暗里帮忙，能让外企帮忙看来是在称赞中国的制度优势


【 在 metaers 的大作中提到: 】
: 标  题: Re: 美国提出新版半导体管制法案：MATCH (转载)
: 发信站: 水木社区 (Tue Apr  7 08:05:15 2026), 站内
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: 这人说了啥？拿了一个招聘广告，写了上万字。
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: 【 在 hljhlj 的大作中提到: 】
: : https://www.zhihu.com/question/1934171735688718255/answer/2016425483621918614?share_code=1cECoJumeofxK&utm_psn=2024726444329248517
: :
: : 内幕消息
: :
: : 【 在 flaredll 的大作中提到: 】
: : : 发信人: luckyid (岁月静好), 信区: NewExpress
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: --发自 ismth(丝滑版)
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: ※ 来源:·水木社区 http://m.mysmth.net·[FROM: 112.10.197.*]
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FROM 222.85.158.*

已经实现的更多啊，比如EDA软件的替代，高性能示波器，刻蚀机等
【 在 blacksand 的大作中提到: 】
: 第n次听到这种话了，免疫了。
: 只能re这个计划两个字：
: 骗子。
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FROM 114.254.212.*

高工艺用的刻蚀机，为5nm用的。EDA软件谁跟你说的那只能用于28nm？还有示波器也是为7nm以下制程准备的。

【 在 blacksand 的大作中提到: 】
: 没要这些东西啊。鬼子也没卡这些啊。刻蚀机光刻胶几年前就做好了，也不是华为做的。
: EDA现在也只有28nm的，华为tapeout都是断网用盗版。
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FROM 114.254.212.*

DUV28nm的做出来了啊，先有再说更进一步的事情。我之前回复这个帖子就说了，高制程工艺目前没那么重要，不用着急。重要的是把整个供应链条上的国产化率提高，让对手制裁的效果大打折扣，我们的反击措施才会更有利，让对手玩伤敌八百，自死一千的游戏更合适。

【 在 blacksand 的大作中提到: 】
: duv着急你也没做出来啊。要东西就给人看计划。真想骂人。
:
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FROM 114.254.212.*

没看到哪儿说不能用的，就是比起ASML的对标型号还有差距罢了，正在导入产线和良率爬坡阶段，没说放弃不用。至于新凯莱这边搞光刻机，不能指望2-3年时间里，就搞出成熟制程光刻机吧？能把其他国内空白填补了也不错啊。

【 在 blacksand 的大作中提到: 】
: 这不是华为做的，而且这个型号良率不到20%，没法用。
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FROM 114.254.212.*