（香港／上海综合讯）英国媒体称，中国晶片制造巨头中芯国际正测试中国首款国产先进晶片制造设备，以在人工智能（AI）处理器生产方面挑战西方竞争对手。
《金融时报》引述两名知情人士报道，中芯国际正测试一台采用浸没式技术的28纳米中国国产深紫外光刻机（DUV），并将利用“多重曝光技术”生产7纳米晶片，也可能以较低的良率生产5纳米晶片，但无法进一步推进到更先进制程。
近期，工信部公布消息称，我国DUV氟化氩光刻机技艺获重大突破，达到分辨率≤65nm，或可量产 28nm 工艺芯片。
【 在 flyingpetals 的大作中提到: 】
: 只要没参照他们的，
: 自己能做出来，就不算专业壁垒
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