- 主题:现在这么多牛逼的年轻人，搞定光刻机指日可待
目前可以量产的是7nm的
可以量产 但是暂时没有商业价值的是5nm的
在先进工艺发展路线中，5nm以下节点都转向了EUV工艺，DUV光刻微缩到7nm就已经很难，但这显然不是国内发展的极限，未来可能一路做到2nm级别。
国内的半导体工艺在未来几年中需要在无EUV的情况下发展，但是即便不考虑外部制裁的影响，追求DUV光刻工艺极限也是需要发展的，国内也早就在做这些研究。
集邦科技科技日前的报道也旧事重提，指出华为早在2021年就发表了相关研究论文，提交的专利申请介绍了SAQP（自对准四重图案化）的技术，在没有EUV光刻机的情况下也能做到2nm级工艺。
该专利使用DUV光刻机及SAQP做出的芯片栅极距低于21nm，这正是2nm工艺的门槛水平。
这里需要强调的是，很多报道中把SAQP翻译成了四重光刻，这是错误的，四重图案不等于四重光刻，这两个意思有天渊之别，四重光刻不论技术上还是成本上都是不可接受的，几乎没有可能性。
此外，2nm工艺也不是华为等机构的终点，华为还申请了大量GAA环绕栅极晶体管以及CFET互补氧化物晶体管相关的专利，后者则是公认的1nm以下到0.1nm节点的关键技术之一。
【 在 flyingpetals 的大作中提到: 】
: 已经出来了，
: 为什么还总是说卡脖子
: 这个生产的是多少nm的
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这个才28nm呀
【 在 Aladdin 的大作中提到: 】
: （香港／上海综合讯）英国媒体称，中国晶片制造巨头中芯国际正测试中国首款国产先进晶片制造设备，以在人工智能（AI）处理器生产方面挑战西方竞争对手。
: 《金融时报》引述两名知情人士报道，中芯国际正测试一台采用浸没式技术的28纳米中国国产深紫外光刻机（DUV），并将利用“多重曝光技术”生产7纳米晶片，也可能以较低的良率生产5纳米晶片，但无法进一步推进到更先进制程。
: 近期，工信部公布消息称，我国DUV氟化氩光刻机技艺获重大突破，达到分辨率≤65nm，或可量产 28nm 工艺芯片。
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28nm的光刻机可以做7nm的芯片呀...
【 在 flyingpetals 的大作中提到: 】
: 这个才28nm呀
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那现在的主要问题是啥
【 在 Aladdin 的大作中提到: 】
: 目前可以量产的是7nm的
: 可以量产 但是暂时没有商业价值的是5nm的
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: ...................
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良品率和产能稳定性把....
而且产业链目前也不能说成熟稳定吧...
不是说光刻胶还受制于人吗....
【 在 flyingpetals 的大作中提到: 】
: 那现在的主要问题是啥
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修改:Aladdin FROM 59.174.110.*
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所以现在的主要问题是啥
28nm的duv，我们能自己生产吗
【 在 Aladdin 的大作中提到: 】
: 28nm的光刻机可以做7nm的芯片呀...
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duv能自己生产吗
【 在 Aladdin 的大作中提到: 】
: 良品率和产能稳定性把....
: 而且产业链目前也不能说成熟稳定吧...
: 不是说光刻胶还受制于人吗....
: ...................
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duv可以 但是最多也就是做7nm了...
【 在 flyingpetals 的大作中提到: 】
: duv能自己生产吗
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所以现在主要目标是攻克euv？
【 在 Aladdin 的大作中提到: 】
: duv可以 但是最多也就是做7nm了...
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euy肯定在做 但是应该不是主要目标把...
先把7nm的产业链稳定把....
【 在 flyingpetals 的大作中提到: 】
: 所以现在主要目标是攻克euv？
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修改:Aladdin FROM 59.174.110.*
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