水木社区手机版
首页
|版面-微电子技术(METech)|
新版wap站已上线
展开
|
楼主
|
同主题展开
|
溯源
|
返回
上一篇
|
下一篇
|
同主题上篇
|
同主题下篇
主题:Re: 关于光刻胶,DS-R1给出的答案如下:
SSJ100
|
2025-12-15 10:21:38
|
可以走私
【 在 pole 的大作中提到: 】
: 目前?国内用于28nm-7nm制程的DUV(深紫外光刻,Deep Ultraviolet Lithography)产业链已基本形成,但用于7nm以下制程的产业链还差临门一脚(产线验证),2030年后才有可能大规模应用。
: 各位是否认可?
--
FROM 223.104.42.*
上一篇
|
下一篇
|
同主题上篇
|
同主题下篇
选择讨论区
首页
|
分区
|
热推
BYR-Team
©
2010.
KBS Dev-Team
©
2011
登录完整版