low 人是没有希望的，连ai 都不会使

周尚林（Sunlin Chou，1946-2018）是英特尔前高级副总裁暨技术与制造事业部总经理，他对半导体制造技术，特别是极紫外光刻（EUV）技术的早期研发，做出了开创性贡献。

### ? 主要成就与贡献
他的职业生涯主要成就如下：
*   **技术与制造领导**：在英特尔服务34年，负责研发与制造，推动工艺迭代（如90纳米、130纳米工艺），入选2002年《科学美国人》50强。
*   **EUV技术早期领导**：作为**EUV LLC联盟的负责人**，在美国国家实验室主导了EUV（13.5nm波长）雏形机台和光罩等核心技术的前沿探索，为后来ASML商业化奠定了基础。
*   **行业荣誉**：2004年当选美国国家工程院院士。

### ? 对EUV技术发展的具体贡献
他对EUV的贡献主要体现在战略领导和早期推动上：
1.  **领导关键联盟**：在1997年业界意识到193nm DUV光源将遇瓶颈时，周尚林博士作为英特尔代表，负责领导由英特尔、摩托罗拉、AMD等公司与美国国家实验室组成的 **EUV LLC联盟**，这是美国推动EUV技术研发的核心组织。
2.  **推动原型研发**：他直接安排并介绍了当时设在**劳伦斯利弗莫尔国家实验室的EUV雏形机台**，见证了早期EUV光罩极其复杂的制作工艺，这些探索解决了EUV技术从理论走向工程实践的最初难题。
3.  **确立技术方向**：该联盟的研究旨在将EUV技术推向生产应用，目标是**2006年至2010年间**投入制造。这为业界指明了超越DUV之后的技术发展路径。

### ? 总结与评价
简单来说，周尚林并非EUV技术的具体发明者，但他作为**早期关键的组织者、领导者和推动者**，在EUV技术尚处于实验室概念阶段时，整合了产业与国家级研发资源，为这项最终彻底改变芯片制造业的技术铺平了道路。

今天，由ASML生产的EUV光刻机已成为制造7纳米及以下尖端芯片的唯一工具，而其中采用的许多基础技术原理，正源于当年EUV LLC联盟所攻克的研究。

如果你想进一步了解当前最先进的High-NA EUV技术，或者EUV LLC联盟的具体运作细节，我可以为你提供更多信息。


【 在 dragonfly112 的大作中提到: 】
: AI分析结果：
: 根据现有的权威资料，光刻机的方案并非由名为 "chou sunling" 的人提出。现代光刻技术的诞生和发展是多人贡献的结果。
: 光刻技术的起源与关键人物
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