AI分析结果：

根据现有的权威资料，光刻机的方案并非由名为 "chou sunling" 的人提出。现代光刻技术的诞生和发展是多人贡献的结果。

光刻技术的起源与关键人物
现代光刻技术的基础概念和早期实践，主要与以下人物和事件相关：

早期探索与命名：光刻技术的基本原理，即利用光学和化学方法在材料上制作精细图形，其早期探索可以追溯到更早。例如，1822年，法国人尼塞福尔·尼埃普斯（Nicephore Niepce）发明了一种利用光线在油纸上刻印痕迹的技术，这被认为是光刻原理的早期雏形。但在当时，这项技术并未在各行业领域中被广泛应用，直到第二次世界大战时期，该技术才被应用于印刷电路板。

现代光刻技术的奠基：现代光刻技术作为半导体制造的核心工艺，其发展始于20世纪50年代。根据多个权威来源记载，关键人物包括：

杰伊·拉斯罗普（Jay Lathrop）：美国物理学家。
詹姆斯·奈尔（James Nall）：化学家，拉斯罗普的助手。

他们在1958年从显微镜的原理中得到启发，通过颠倒显微镜来缩小图像，从而开发出了将电路图案"打印"到硅片上的技术，这标志着光刻技术正式应用于半导体制造业

光刻机的商业化推进：在光刻机从实验室走向商业化生产的过程中，一些公司和机构起到了关键的推动作用。例如20世纪60年代，美国GCA公司制造出了第一台接触式光刻机。

日本的尼康（Nikon） 和佳能（Canon） 也较早地进入了光刻机的研发领域。

荷兰飞利浦公司旗下的实验室（Natlab）在1967年研制出了光刻机原型，这家实验室正是后来光刻机巨头阿斯麦（ASML） 的前身

【 在 hljhlj 的大作中提到: 】
: euv 这块儿是个华人提的方案
: chou sunling, 其他人跟着搞的，
: 国内这种人爬不上去的
: ...................
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